Guo, L. ; Singh, R. N. ; Kleebe, Hans-Joachim (2006)
Growth of Boron-rich nanowires by chemical vapor deposition (CVD).
In: Journal of nanomaterials, 2006
doi: 10.1155/JNM/2006/58237
Artikel, Bibliographie
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| Typ des Eintrags: | Artikel |
|---|---|
| Erschienen: | 2006 |
| Autor(en): | Guo, L. ; Singh, R. N. ; Kleebe, Hans-Joachim |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | Growth of Boron-rich nanowires by chemical vapor deposition (CVD) |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | 13 November 2006 |
| Verlag: | Hindawi |
| Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | Journal of nanomaterials |
| Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: | 2006 |
| DOI: | 10.1155/JNM/2006/58237 |
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| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Geowissenschaften 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Geowissenschaften > Fachgebiet Geomaterialwissenschaft |
| Hinterlegungsdatum: | 20 Nov 2008 08:25 |
| Letzte Änderung: | 03 Jul 2024 02:07 |
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Growth of Boron-Rich Nanowires by Chemical Vapor Deposition (CVD). (deposited 09 Feb 2022 13:28)
- Growth of Boron-rich nanowires by chemical vapor deposition (CVD). (deposited 20 Nov 2008 08:25) [Gegenwärtig angezeigt]
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