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Hard silicon carbonitride films obtained by RF-plasma enhanced chemical vapour deposition using the single source precursor Bis(trimethylsilyl)-carbodiimide

Zhou, Yanping ; Probst, Daniel ; Thissen, Andreas ; Kroke, Edwin ; Riedel, Ralf ; Hauser, Ralf ; Hoche, Holger ; Broszeit, Erhard ; Kroll, Peter ; Stafast, Herbert (2005)
Hard silicon carbonitride films obtained by RF-plasma enhanced chemical vapour deposition using the single source precursor Bis(trimethylsilyl)-carbodiimide.
In: Journal of the European Ceramic Society, 26
Artikel, Bibliographie

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 2005
Autor(en): Zhou, Yanping ; Probst, Daniel ; Thissen, Andreas ; Kroke, Edwin ; Riedel, Ralf ; Hauser, Ralf ; Hoche, Holger ; Broszeit, Erhard ; Kroll, Peter ; Stafast, Herbert
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: Hard silicon carbonitride films obtained by RF-plasma enhanced chemical vapour deposition using the single source precursor Bis(trimethylsilyl)-carbodiimide
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 2005
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Journal of the European Ceramic Society
Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: 26
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften
Hinterlegungsdatum: 20 Nov 2008 08:22
Letzte Änderung: 20 Feb 2020 13:25
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