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The effect of glas plasma on the deposition quality of Schottky metals and interconnect metallisation for planar diodes structure for THz applications

Ichizli, Victoria M. ; Rodriguez-Girones, M. ; Lin, Ch.-I. ; Szeliga, P. ; Hartnagel, H. L. (2001)
The effect of glas plasma on the deposition quality of Schottky metals and interconnect metallisation for planar diodes structure for THz applications.
Konferenzveröffentlichung, Bibliographie

Typ des Eintrags: Konferenzveröffentlichung
Erschienen: 2001
Autor(en): Ichizli, Victoria M. ; Rodriguez-Girones, M. ; Lin, Ch.-I. ; Szeliga, P. ; Hartnagel, H. L.
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: The effect of glas plasma on the deposition quality of Schottky metals and interconnect metallisation for planar diodes structure for THz applications
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 2001
Reihe: International Conference on THz Electronics <9, 2001, Charlottesville, Virginia>: Proceedings
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik
18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Mikrowellenelektronik
Hinterlegungsdatum: 19 Nov 2008 16:28
Letzte Änderung: 14 Feb 2019 10:47
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