Hermans, Yannick ; Mehmood, Faraz ; Lakus-Wollny, Kerstin ; Hofmann, Jan P. ; Mayer, Thomas ; Jaegermann, Wolfram (2021)
Reactive Dual Magnetron Sputtering: A Fast Method for Preparing Stoichiometric Microcrystalline ZnWO4 Thin Films.
In: Surfaces, 4 (2)
doi: 10.3390/surfaces4020013
Artikel, Bibliographie
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URL / URN: https://doi.org/10.3390/surfaces4020013
| Typ des Eintrags: | Artikel |
|---|---|
| Erschienen: | 2021 |
| Autor(en): | Hermans, Yannick ; Mehmood, Faraz ; Lakus-Wollny, Kerstin ; Hofmann, Jan P. ; Mayer, Thomas ; Jaegermann, Wolfram |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | Reactive Dual Magnetron Sputtering: A Fast Method for Preparing Stoichiometric Microcrystalline ZnWO4 Thin Films |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | 2021 |
| Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | Surfaces |
| Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: | 4 |
| (Heft-)Nummer: | 2 |
| DOI: | 10.3390/surfaces4020013 |
| URL / URN: | https://doi.org/10.3390/surfaces4020013 |
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| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Oberflächenforschung |
| Hinterlegungsdatum: | 11 Mai 2021 11:03 |
| Letzte Änderung: | 03 Jul 2024 02:51 |
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Verfügbare Versionen dieses Eintrags
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Reactive Dual Magnetron Sputtering: A Fast Method for Preparing Stoichiometric Microcrystalline ZnWO₄ Thin Films. (deposited 26 Aug 2021 12:30)
- Reactive Dual Magnetron Sputtering: A Fast Method for Preparing Stoichiometric Microcrystalline ZnWO4 Thin Films. (deposited 11 Mai 2021 11:03) [Gegenwärtig angezeigt]
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