Tilsch, Markus ; Scheuer, Volker ; Biersack, Jochen ; Tschudi, Theo
Hrsg.: Gee, Anthony E. (1996)
3D simulation of thin film growth conditions at ion beam sputter deposition and comparison to experimental investigations.
doi: 10.1117/12.246794
Konferenzveröffentlichung, Bibliographie
| Typ des Eintrags: | Konferenzveröffentlichung |
|---|---|
| Erschienen: | 1996 |
| Herausgeber: | Gee, Anthony E. |
| Autor(en): | Tilsch, Markus ; Scheuer, Volker ; Biersack, Jochen ; Tschudi, Theo |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | 3D simulation of thin film growth conditions at ion beam sputter deposition and comparison to experimental investigations |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | 1996 |
| Ort: | Bellingham, Wash. |
| Verlag: | SPIE |
| Buchtitel: | Specification, Production, and Testing of Optical Components and Systems |
| Reihe: | Proceedings of SPIE |
| Band einer Reihe: | 2775 |
| DOI: | 10.1117/12.246794 |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 05 Fachbereich Physik |
| Hinterlegungsdatum: | 19 Nov 2008 16:21 |
| Letzte Änderung: | 23 Apr 2024 10:36 |
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