Mani, Arzhang ; Nikfalazar, M. ; Muench, Falk ; Radetinac, Aldin ; Zheng, Y. ; Wiens, A. ; Melnyk, S. ; Maune, H. ; Alff, Lambert ; Jakoby, R. ; Komissinskiy, Philipp (2016)
Wet-chemical etching of SrMoO3 thin films.
In: Materials Letters, 184
doi: 10.1016/j.matlet.2016.08.038
Artikel, Bibliographie
Kurzbeschreibung (Abstract)
SrMoO3 is a perovskite oxide material with very high electrical conductivity, exhibiting great potential for integration into electronic devices. Here, we present a method for controlled wet-chemical etching of SrMoO3 thin films using alkaline solutions. The etching process includes superficial oxidation of the Mo4+ of the SrMoO3 to Mo6+ followed by solvation of the molybdate and strontium ions. The SrMoO3 etching rate can be widely tuned by adjusting the amount of the oxidizing additives in the solution.
| Typ des Eintrags: | Artikel |
|---|---|
| Erschienen: | 2016 |
| Autor(en): | Mani, Arzhang ; Nikfalazar, M. ; Muench, Falk ; Radetinac, Aldin ; Zheng, Y. ; Wiens, A. ; Melnyk, S. ; Maune, H. ; Alff, Lambert ; Jakoby, R. ; Komissinskiy, Philipp |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | Wet-chemical etching of SrMoO3 thin films |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | 1 Dezember 2016 |
| Verlag: | Elsevier Science Publishing |
| Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | Materials Letters |
| Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: | 184 |
| DOI: | 10.1016/j.matlet.2016.08.038 |
| Kurzbeschreibung (Abstract): | SrMoO3 is a perovskite oxide material with very high electrical conductivity, exhibiting great potential for integration into electronic devices. Here, we present a method for controlled wet-chemical etching of SrMoO3 thin films using alkaline solutions. The etching process includes superficial oxidation of the Mo4+ of the SrMoO3 to Mo6+ followed by solvation of the molybdate and strontium ions. The SrMoO3 etching rate can be widely tuned by adjusting the amount of the oxidizing additives in the solution. |
| Freie Schlagworte: | SrMoO3, Molybdate, Thin films, Wet chemical etching, Electronic materials |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Dünne Schichten 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Materialanalytik 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Mikrowellentechnik und Photonik (IMP) > Mikrowellentechnik 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Mikrowellentechnik und Photonik (IMP) |
| Hinterlegungsdatum: | 18 Mai 2017 08:21 |
| Letzte Änderung: | 28 Sep 2017 07:24 |
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| Sponsoren: | This work was supported by the German DFG within KO 4093/1-1 and JA 921/31-1. |
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