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Conformal SiO2 coating of sub-100 nm diameter channels of polycarbonate etched ion-track channels by atomic layer deposition

Sobel, Nicolas ; Hess, Christian ; Lukas, Manuela ; Spende, Anne ; Stühn, B. ; Toimil-Molares, M. E. ; Trautmann, Christina (2015)
Conformal SiO2 coating of sub-100 nm diameter channels of polycarbonate etched ion-track channels by atomic layer deposition.
In: Beilstein Journal of Nanotechnology, 6
doi: 10.3762/bjnano.6.48
Artikel, Bibliographie

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Typ des Eintrags:	Artikel
Erschienen:	2015
Autor(en):	Sobel, Nicolas ; Hess, Christian ; Lukas, Manuela ; Spende, Anne ; Stühn, B. ; Toimil-Molares, M. E. ; Trautmann, Christina
Art des Eintrags:	Bibliographie
Titel:	Conformal SiO2 coating of sub-100 nm diameter channels of polycarbonate etched ion-track channels by atomic layer deposition
Sprache:	Englisch
Publikationsjahr:	2015
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe:	Beilstein Journal of Nanotechnology
Jahrgang/Volume einer Zeitschrift:	6
DOI:	10.3762/bjnano.6.48
Zugehörige Links:	TUprints Zweitveröffentlichung
Fachbereich(e)/-gebiet(e):	11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Ionenstrahlmodifizierte Materialien 05 Fachbereich Physik 05 Fachbereich Physik > Institut für Festkörperphysik (2021 umbenannt in Institut für Physik Kondensierter Materie (IPKM)) 05 Fachbereich Physik > Institut für Festkörperphysik (2021 umbenannt in Institut für Physik Kondensierter Materie (IPKM)) > Experimentelle Physik kondensierter Materie 07 Fachbereich Chemie 07 Fachbereich Chemie > Eduard Zintl-Institut 07 Fachbereich Chemie > Eduard Zintl-Institut > Fachgebiet Physikalische Chemie
Hinterlegungsdatum:	22 Jul 2015 06:46
Letzte Änderung:	25 Apr 2024 07:53
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- Conformal SiO2 coating of sub-100 nm diameter channels of polycarbonate etched ion-track channels by atomic layer deposition. (deposited 22 Jul 2015 06:46) [Gegenwärtig angezeigt]

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