Sobel, Nicolas ; Hess, Christian (2015)
Nano-laminating of SiO2 and TiO2: Atomic layer deposition as a tool to gain new insight into interfaces.
In: MRS Proceedings, 1805
doi: 10.1557/opl.2015.554
Artikel, Bibliographie
| Typ des Eintrags: | Artikel |
|---|---|
| Erschienen: | 2015 |
| Autor(en): | Sobel, Nicolas ; Hess, Christian |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | Nano-laminating of SiO2 and TiO2: Atomic layer deposition as a tool to gain new insight into interfaces |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | 2015 |
| Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | MRS Proceedings |
| Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: | 1805 |
| DOI: | 10.1557/opl.2015.554 |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 07 Fachbereich Chemie > Eduard Zintl-Institut > Fachgebiet Physikalische Chemie 07 Fachbereich Chemie |
| Hinterlegungsdatum: | 08 Jun 2015 06:48 |
| Letzte Änderung: | 07 Sep 2016 08:36 |
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