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Synchrotron photoemission spectroscopy study of ammonium hydroxide etching to prepare well-ordered GaAs(100) surfaces

Lebedev, M. ; Ensling, D. ; Hunger, R. ; Mayer, T. ; Jaegermann, W. (2004)
Synchrotron photoemission spectroscopy study of ammonium hydroxide etching to prepare well-ordered GaAs(100) surfaces.
In: Applied Surface Science, 229 (1-4)
doi: 10.1016/j.apsusc.2004.01.067
Artikel, Bibliographie

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 2004
Autor(en): Lebedev, M. ; Ensling, D. ; Hunger, R. ; Mayer, T. ; Jaegermann, W.
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: Synchrotron photoemission spectroscopy study of ammonium hydroxide etching to prepare well-ordered GaAs(100) surfaces
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 15 Mai 2004
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Applied Surface Science
Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: 229
(Heft-)Nummer: 1-4
DOI: 10.1016/j.apsusc.2004.01.067
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Oberflächenforschung
Hinterlegungsdatum: 21 Mär 2015 11:55
Letzte Änderung: 21 Mär 2015 11:55
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