Das grafische Tiefdruckverfahren ist eine sehr zuverlässige Technologie, um kleinste Flüssigkeitsmengen in Form von Druckpunkten strukturiert auf ein Substrat zu übertragen. Dennoch stellt es eine erhebliche wissenschaftliche Herausforderung dar, dieses Druckverfahren für die Herstellung großflächiger, ultra dünner Schichten zu nutzen, wie sie z.B. in organischen Leuchtdioden (OLEDs) zum Einsatz kommen. Dies gilt nicht nur für die Drucktechnologie, sondern auch für die großflächige Messtechnik dieser Schichten. Die Charakterisierung von sub-100 nm dünnen Schichten über die gesamte Druckfläche (∼DINA5) hinsichtlich ihrer Schichthomogenität ist eines der beiden Kernthemen der vorliegenden Arbeit. Durch die Ausnutzung der optischen Interferenz an dünnen Schichten wurde ein Verfahren erarbeitet, experimentell aufgebaut und erfolgreich an organischen Halbleitern evaluiert, das Schichtdicken von bis zu DINA5 großen Proben binnen Sekunden auf unter 5 nm genau bestimmt. Sowohl ein Mikroskop als auch ein modifizierter Flachbettscanner wurden verwendet, um herkömmliche RGB-Bilddaten der Dünnschichtproben mit Hilfe eines weiterentwickelten physikalischen Modells, das in MATLAB implementiert wurde, auszuwerten. Das vorgestellte Verfahren bietet die Möglichkeit einer Inline Prozesskontrolle für die Herstellung großflächiger, ultra dünner Schichten. Der zweite Schwerpunkt dieser Arbeit liegt in der Erarbeitung eines Modells, das es erlaubt, experimentell gefundene Prozessparameter für die erfolgreiche Verwendung des Tiefdruckverfahrens für die Herstellung ultra dünner Schichten aus niedrigviskosen Tinten auf Basis Kleiner Moleküle zu verifizieren. Dazu wurden Tiefdruckexperimente mit variierenden Prozessparametern auf je zwei hintereinander montierten 150×150 mm² großen ITO-beschichteten Glasscheiben durchgeführt, die einen Parameterraum von 128 verschiedenen gedruckten Feldern der Größe 30×30 mm² bilden. Die entwickelte Messtechnik ermöglichte es, alle sub-100 nm Schichten vollflächig hinsichtlich ihrer Schichtdicke zu charakterisieren (insgesamt ∼1800 cm²), um sie einer genauen, topographischen Analyse zu unterziehen. In dieser Analyse werden verschiedene Schichtparameter, darunter die Rauigkeit, die dominante laterale Wellenlänge, die Schiefe (Skewness) und die Kurtosis ausgewertet und mit fluiddynamischen Modellen des Druckprozesses und deren Auswirkungen auf die gedruckte Schicht verglichen. Für das Drucken homogener, ultra dünner Schichten lassen sich zwei Prozessfenster identifizieren, die auf Farbspaltungsmechanismen im Druckspalt- die Punkt- und die Filmspaltung −, die Nivellierung des flüssigen Films und die Trocknungszeit zurückzuführen sind. Durch die Verknüpfung der beiden zugrunde liegenden Forschungs themen werden erstmalig die in der Literatur und der vorliegenden Arbeit experimentell nachgewiesenen Prozessfenster für das erfolgreiche Herstellen ultra dünner Schichten mittels Tiefdruck theoretisch verifiziert.