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Vapor-Phase Deposition of Oxides

Alff, Lambert ; Klein, Andreas ; Komissinskiy, Philipp ; Kurian, Jose
Hrsg.: Riedel, Ralf ; Chen, I-Wei (2012)
Vapor-Phase Deposition of Oxides.
In: Ceramics Science and Technology
doi: 10.1002/9783527631957.ch11
Buchkapitel, Bibliographie

Typ des Eintrags: Buchkapitel
Erschienen: 2012
Herausgeber: Riedel, Ralf ; Chen, I-Wei
Autor(en): Alff, Lambert ; Klein, Andreas ; Komissinskiy, Philipp ; Kurian, Jose
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: Vapor-Phase Deposition of Oxides
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 2012
Ort: Weinheim
Verlag: Wiley-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA
Buchtitel: Ceramics Science and Technology
DOI: 10.1002/9783527631957.ch11
Freie Schlagworte: Oxides, thin-film technology, pulsed laser deposition, molecular beam epitaxy, sputtering
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Dünne Schichten
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Oberflächenforschung
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften
Hinterlegungsdatum: 07 Jan 2014 09:19
Letzte Änderung: 07 Jan 2014 09:19
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