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Reduction-induced Fermi level pinning at the interfaces between Pb(Zr,Ti)O3 and Pt, Cu and Ag metal electrodes

Chen, Feng ; Schafranek, Robert ; Wu, Wenbin ; Klein, Andreas (2011)
Reduction-induced Fermi level pinning at the interfaces between Pb(Zr,Ti)O3 and Pt, Cu and Ag metal electrodes.
In: Journal of Physics D: Applied Physics, 44 (25)
doi: 10.1088/0022-3727/44/25/255301
Artikel, Bibliographie

Kurzbeschreibung (Abstract)

The interface formation between Pb(Zr,Ti)O3 and Pt, Cu and Ag was studied using in situ photoelectron spectroscopy. A strong interface reaction and a reduction of the substrate surface is observed for all three interfaces as evidenced by the appearance of metallic Pb species. Despite the different work function of the metals, nearly identical barrier heights are found with EF − EVB = 1.6 ± 0.1 eV, 1.8 ± 0.1 eV and 1.7 ± 0.1 eV of the as-prepared interfaces with Pt, Cu and Ag, respectively. The barrier heights are characterized by a strong Fermi level pinning, which is attributed to an oxygen deficient interface induced by the chemical reduction of Pb(Zr,Ti)O3 during metal deposition.

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 2011
Autor(en): Chen, Feng ; Schafranek, Robert ; Wu, Wenbin ; Klein, Andreas
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: Reduction-induced Fermi level pinning at the interfaces between Pb(Zr,Ti)O3 and Pt, Cu and Ag metal electrodes
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 29 Juni 2011
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Journal of Physics D: Applied Physics
Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: 44
(Heft-)Nummer: 25
DOI: 10.1088/0022-3727/44/25/255301
Kurzbeschreibung (Abstract):

The interface formation between Pb(Zr,Ti)O3 and Pt, Cu and Ag was studied using in situ photoelectron spectroscopy. A strong interface reaction and a reduction of the substrate surface is observed for all three interfaces as evidenced by the appearance of metallic Pb species. Despite the different work function of the metals, nearly identical barrier heights are found with EF − EVB = 1.6 ± 0.1 eV, 1.8 ± 0.1 eV and 1.7 ± 0.1 eV of the as-prepared interfaces with Pt, Cu and Ag, respectively. The barrier heights are characterized by a strong Fermi level pinning, which is attributed to an oxygen deficient interface induced by the chemical reduction of Pb(Zr,Ti)O3 during metal deposition.

Zusätzliche Informationen:

SFB 595 B7

Fachbereich(e)/-gebiet(e): 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Oberflächenforschung
Zentrale Einrichtungen
DFG-Sonderforschungsbereiche (inkl. Transregio) > Sonderforschungsbereiche > SFB 595: Elektrische Ermüdung
DFG-Sonderforschungsbereiche (inkl. Transregio) > Sonderforschungsbereiche > SFB 595: Elektrische Ermüdung > B - Charakterisierung
DFG-Sonderforschungsbereiche (inkl. Transregio) > Sonderforschungsbereiche > SFB 595: Elektrische Ermüdung > B - Charakterisierung > Teilprojekt B7:Polarisation und Ladung in elektrisch ermüdeten Ferroelektrika
DFG-Sonderforschungsbereiche (inkl. Transregio) > Sonderforschungsbereiche
DFG-Sonderforschungsbereiche (inkl. Transregio)
Hinterlegungsdatum: 17 Sep 2012 12:08
Letzte Änderung: 26 Mär 2015 10:13
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