Wang, Zhi-Chang ; Gerstel, Peter ; Kaiser, Gerhard ; Kummer, Horst ; Bill, Joachim ; Aldinger, Fritz ; Riedel, Ralf (2001)
{B[C2H4Si(CH3)NH]2[C2H4Si(CH3)N(SiH2Ph)]}n: The First Polyborosilazane Precursor for Silicoboron Carbonitride Stable to 2200 .DEG.C..
In: Chemistry Letters, 30 (4)
doi: 10.1246/cl.2001.296
Artikel, Bibliographie
Kurzbeschreibung (Abstract)
{B[C2H4Si(CH3)NH]2[C2H4Si(CH3)N(SiH2Ph)]}n was synthesized by base-catalyzed dehydrocoupling reaction of {B[C2H4Si(CH3)NH]3}n with phenylsilane. Pyrolysis of the new polyborosilazane precursor to 1050 °C gave an amorphous material Si3.9B1.0C11N3.2, which could resist thermal degradation to 2200 °C in argon.
| Typ des Eintrags: | Artikel |
|---|---|
| Erschienen: | 2001 |
| Autor(en): | Wang, Zhi-Chang ; Gerstel, Peter ; Kaiser, Gerhard ; Kummer, Horst ; Bill, Joachim ; Aldinger, Fritz ; Riedel, Ralf |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | {B[C2H4Si(CH3)NH]2[C2H4Si(CH3)N(SiH2Ph)]}n: The First Polyborosilazane Precursor for Silicoboron Carbonitride Stable to 2200 .DEG.C.. |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | 2001 |
| Verlag: | Komiyama Printing Co., Ltd |
| Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | Chemistry Letters |
| Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: | 30 |
| (Heft-)Nummer: | 4 |
| DOI: | 10.1246/cl.2001.296 |
| Kurzbeschreibung (Abstract): | {B[C2H4Si(CH3)NH]2[C2H4Si(CH3)N(SiH2Ph)]}n was synthesized by base-catalyzed dehydrocoupling reaction of {B[C2H4Si(CH3)NH]3}n with phenylsilane. Pyrolysis of the new polyborosilazane precursor to 1050 °C gave an amorphous material Si3.9B1.0C11N3.2, which could resist thermal degradation to 2200 °C in argon. |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Disperse Feststoffe 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften |
| Hinterlegungsdatum: | 18 Mai 2012 08:19 |
| Letzte Änderung: | 05 Mär 2013 10:00 |
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