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Diffusion based degradation mechanisms in giant magnetoresistive spin valves

Hawraneck, Matthias ; Zimmer, Jürgen ; Raberg, Wolfgang ; Prügl, Klemens ; Schmitt, Stephan ; Bever, Thomas ; Flege, Stefan ; Alff, Lambert (2008)
Diffusion based degradation mechanisms in giant magnetoresistive spin valves.
In: Applied Physics Letters, 93 (1)
doi: 10.1063/1.2956394
Artikel, Bibliographie

Kurzbeschreibung (Abstract)

Spin valve systems based on the giant magnetoresistive effect as used, for example, in hard disks and automotive applications consist of several functional metallic thin film layers. We have identified by secondary ion mass spectrometry two main degradation mechanisms: one is related to oxygen diffusion through a protective cap layer and the other one is interdiffusion directly at the functional layers of the giant magnetoresistive stack. By choosing a suitable material as cap layer (TaN), the oxidation effect can be suppressed.

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 2008
Autor(en): Hawraneck, Matthias ; Zimmer, Jürgen ; Raberg, Wolfgang ; Prügl, Klemens ; Schmitt, Stephan ; Bever, Thomas ; Flege, Stefan ; Alff, Lambert
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: Diffusion based degradation mechanisms in giant magnetoresistive spin valves
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 9 Juli 2008
Verlag: American Institute of Physics
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Applied Physics Letters
Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: 93
(Heft-)Nummer: 1
DOI: 10.1063/1.2956394
Kurzbeschreibung (Abstract):

Spin valve systems based on the giant magnetoresistive effect as used, for example, in hard disks and automotive applications consist of several functional metallic thin film layers. We have identified by secondary ion mass spectrometry two main degradation mechanisms: one is related to oxygen diffusion through a protective cap layer and the other one is interdiffusion directly at the functional layers of the giant magnetoresistive stack. By choosing a suitable material as cap layer (TaN), the oxidation effect can be suppressed.

Freie Schlagworte: chemical interdiffusion, magnetic thin films, magnetoresistance, metallic thin films, oxidation, secondary ion mass spectra, spin valves, tantalum, tantalum compounds
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Dünne Schichten
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Materialanalytik
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften
Hinterlegungsdatum: 29 Mär 2012 10:56
Letzte Änderung: 05 Mär 2013 10:00
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Sponsoren: This work was supported by the BMBF Project No. 13N9084.
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