Gierl, C. ; Gruendl, T. ; Debernardi, P. ; Zogal, K. ; Grasse, C. ; Davani, H. A. ; Böhm, G. ; Jatta, S. ; Küppers, F. ; Meißner, P. ; Amann, M.-C. (2011)
Surface micromachined tunable 1.55 µm-VCSEL with 102 nm continuous single-mode tuning.
In: Optics Express, 19 (18)
Artikel, Bibliographie
Kurzbeschreibung (Abstract)
For the first time a vertical-cavity surface-emitting laser (VCSEL) with a single-mode wavelength-tuning over 102nm in the range of 1550nm is demonstrated. The fiber-coupled optical output power has a maximum of 3.5mW and is \textgreater 2mW over the entire tuning range. The sidemode suppression ratios are \textgreater 45dB. The wavelength tuning is achieved with the micro-electro mechanical actuation of a mirror membrane fabricated with surface micro-machining for on-wafer mass production. The mirror membrane consists of low cost dielectric materials (SiOx/SiNy) deposited with low temperature (\textless 100 °C) Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD).
Typ des Eintrags: | Artikel |
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Erschienen: | 2011 |
Autor(en): | Gierl, C. ; Gruendl, T. ; Debernardi, P. ; Zogal, K. ; Grasse, C. ; Davani, H. A. ; Böhm, G. ; Jatta, S. ; Küppers, F. ; Meißner, P. ; Amann, M.-C. |
Art des Eintrags: | Bibliographie |
Titel: | Surface micromachined tunable 1.55 µm-VCSEL with 102 nm continuous single-mode tuning |
Sprache: | Englisch |
Publikationsjahr: | 2011 |
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | Optics Express |
Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: | 19 |
(Heft-)Nummer: | 18 |
URL / URN: | http://www.opticsexpress.org/abstract.cfm?URI=oe-19-18-17336 |
Kurzbeschreibung (Abstract): | For the first time a vertical-cavity surface-emitting laser (VCSEL) with a single-mode wavelength-tuning over 102nm in the range of 1550nm is demonstrated. The fiber-coupled optical output power has a maximum of 3.5mW and is \textgreater 2mW over the entire tuning range. The sidemode suppression ratios are \textgreater 45dB. The wavelength tuning is achieved with the micro-electro mechanical actuation of a mirror membrane fabricated with surface micro-machining for on-wafer mass production. The mirror membrane consists of low cost dielectric materials (SiOx/SiNy) deposited with low temperature (\textless 100 °C) Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD). |
Freie Schlagworte: | Lasers, tunable, Optical microelectromechanical devices, Vertical cavity surface emitting lasers |
Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Mikrowellentechnik und Photonik (IMP) > Photonik und Optische Nachrichtentechnik 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Mikrowellentechnik und Photonik (IMP) |
Hinterlegungsdatum: | 08 Mär 2012 16:16 |
Letzte Änderung: | 05 Aug 2013 12:49 |
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