Klein, Andreas ; Körber, C. ; Wachau, A. ; Säuberlich, F. ; Gassenbauer, Y. ; Schafranek, R. ; Harvey, S. P. ; Mason, T. O. (2009)
Surface potentials of magnetron sputtered transparent conducting oxides.
In: Thin Solid Films, 518 (4)
doi: 10.1016/j.tsf.2009.05.057
Artikel, Bibliographie
Kurzbeschreibung (Abstract)
Work functions, ionization potentials (electron affinities) and Fermi level positions measured in-situ by photoelectron spectroscopy at surfaces of transparent conducting oxides are presented. Thin films of ZnO, ZnO:Al, SnO2, SnO2:Sb, In2O3, In2O3:Sn, and In2O3:(Zn,Sn) are prepared by magnetron sputtering. The Fermi level position is strongly affected by the oxygen content in the sputter gas. The ionization potential and work function of ZnO are strongly affected by surface orientation. In contrast, SnO2-based and In2O3-based materials show pronounced changes of ionization potential and work function induced by surface oxidation and reduction. Unlike SnO2, the oxidation of the In2O3-based TCO surfaces does not occur during deposition but can be induced by post-deposition treatments.
| Typ des Eintrags: | Artikel |
|---|---|
| Erschienen: | 2009 |
| Autor(en): | Klein, Andreas ; Körber, C. ; Wachau, A. ; Säuberlich, F. ; Gassenbauer, Y. ; Schafranek, R. ; Harvey, S. P. ; Mason, T. O. |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | Surface potentials of magnetron sputtered transparent conducting oxides |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | Dezember 2009 |
| Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | Thin Solid Films |
| Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: | 518 |
| (Heft-)Nummer: | 4 |
| DOI: | 10.1016/j.tsf.2009.05.057 |
| Kurzbeschreibung (Abstract): | Work functions, ionization potentials (electron affinities) and Fermi level positions measured in-situ by photoelectron spectroscopy at surfaces of transparent conducting oxides are presented. Thin films of ZnO, ZnO:Al, SnO2, SnO2:Sb, In2O3, In2O3:Sn, and In2O3:(Zn,Sn) are prepared by magnetron sputtering. The Fermi level position is strongly affected by the oxygen content in the sputter gas. The ionization potential and work function of ZnO are strongly affected by surface orientation. In contrast, SnO2-based and In2O3-based materials show pronounced changes of ionization potential and work function induced by surface oxidation and reduction. Unlike SnO2, the oxidation of the In2O3-based TCO surfaces does not occur during deposition but can be induced by post-deposition treatments. |
| Freie Schlagworte: | Work function; SnO2; In2O3; ZnO; TCO; Thin film; Magnetron sputtering; Photoemission |
| Zusätzliche Informationen: | SFB 595 D3 |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Oberflächenforschung Zentrale Einrichtungen DFG-Sonderforschungsbereiche (inkl. Transregio) > Sonderforschungsbereiche > SFB 595: Elektrische Ermüdung DFG-Sonderforschungsbereiche (inkl. Transregio) > Sonderforschungsbereiche > SFB 595: Elektrische Ermüdung > D - Bauteileigenschaften DFG-Sonderforschungsbereiche (inkl. Transregio) > Sonderforschungsbereiche > SFB 595: Elektrische Ermüdung > D - Bauteileigenschaften > Teilprojekt D3: Funktion und Ermüdung oxidischer Elektroden in organischen Leuchtdioden DFG-Sonderforschungsbereiche (inkl. Transregio) > Sonderforschungsbereiche DFG-Sonderforschungsbereiche (inkl. Transregio) |
| Hinterlegungsdatum: | 16 Sep 2011 12:36 |
| Letzte Änderung: | 25 Mär 2015 20:57 |
| PPN: | |
| Export: | |
| Suche nach Titel in: | TUfind oder in Google |
 |
Frage zum Eintrag |
Optionen (nur für Redakteure)
 |
Redaktionelle Details anzeigen |
Drucken
Impressum