TU Darmstadt / ULB / TUbiblio

Amorphisation of (100) oriented silicon by self implantation

Klein, Sylke ; Hahn, ; Balogh, ; Rück, ; Baumann, ; Michelmann, :
Amorphisation of (100) oriented silicon by self implantation.
In: Institut für Kernphysik der J. W. Goethe Universität, Frankfurt/Main: Jahresbericht 1995, S. 45
[Artikel], (1995)

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 1995
Autor(en): Klein, Sylke ; Hahn, ; Balogh, ; Rück, ; Baumann, ; Michelmann,
Titel: Amorphisation of (100) oriented silicon by self implantation
Sprache: Englisch
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Institut für Kernphysik der J. W. Goethe Universität, Frankfurt/Main: Jahresbericht 1995, S. 45
Fachbereich(e)/-gebiet(e): FB Materialwissenschaft (aufgegangen in FB11)
Hinterlegungsdatum: 19 Nov 2008 16:00
Export:

Optionen (nur für Redakteure)

Eintrag anzeigen Eintrag anzeigen