Klein, Sylke ; Hahn, ; Balogh, ; Rück, ; Baumann, ; Michelmann,
:
Amorphisation of (100) oriented silicon by self implantation.
In:
Institut für Kernphysik der J. W. Goethe Universität, Frankfurt/Main: Jahresbericht 1995, S. 45
[Artikel], (1995)
| Typ des Eintrags: | Artikel |
|---|---|
| Erschienen: | 1995 |
| Autor(en): | Klein, Sylke ; Hahn, ; Balogh, ; Rück, ; Baumann, ; Michelmann, |
| Titel: | Amorphisation of (100) oriented silicon by self implantation |
| Sprache: | Englisch |
| Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | Institut für Kernphysik der J. W. Goethe Universität, Frankfurt/Main: Jahresbericht 1995, S. 45 |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | FB Materialwissenschaft (aufgegangen in FB11) |
| Hinterlegungsdatum: | 19 Nov 2008 16:00 |
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