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High-barrier Schottky contacts on N-InP using damage-free electrochemical metallization

Dumka, D. C. ; Riemenschneider, ; Hartnagel, :
High-barrier Schottky contacts on N-InP using damage-free electrochemical metallization.
In: Workshop on Compound Semiconductor Devices and Integrated Circuits: WOCSDICE <19, 1995, Stockholm, Schweden>: Abstracts .
[Konferenz- oder Workshop-Beitrag], (1995)

Typ des Eintrags: Konferenz- oder Workshop-Beitrag (Keine Angabe)
Erschienen: 1995
Autor(en): Dumka, D. C. ; Riemenschneider, ; Hartnagel,
Titel: High-barrier Schottky contacts on N-InP using damage-free electrochemical metallization
Sprache: Englisch
Reihe: Workshop on Compound Semiconductor Devices and Integrated Circuits: WOCSDICE <19, 1995, Stockholm, Schweden>: Abstracts
Fachbereich(e)/-gebiet(e): Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik
Hinterlegungsdatum: 19 Nov 2008 15:58
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