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High-barrier Schottky contacts on N-InP using damage-free electrochemical metallization

Dumka, D. C. ; Riemenschneider, Rolf ; Hartnagel, Hans L. (1995)
High-barrier Schottky contacts on N-InP using damage-free electrochemical metallization.
19th Workshop on Compound Semiconductor Devices and Integrated Circuits: WOCSDICE. Stockholm (21.05.1995-24.05.1995)
Konferenzveröffentlichung, Bibliographie

Typ des Eintrags: Konferenzveröffentlichung
Erschienen: 1995
Autor(en): Dumka, D. C. ; Riemenschneider, Rolf ; Hartnagel, Hans L.
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: High-barrier Schottky contacts on N-InP using damage-free electrochemical metallization
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 1995
Ort: Stockholm
Buchtitel: Workshop on Compound Semiconductor Devices and Integrated Circuits: WOCSDICE <19, 1995, Stockholm, Schweden>: Abstracts
Veranstaltungstitel: 19th Workshop on Compound Semiconductor Devices and Integrated Circuits: WOCSDICE
Veranstaltungsort: Stockholm
Veranstaltungsdatum: 21.05.1995-24.05.1995
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik
18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Mikrowellenelektronik
Hinterlegungsdatum: 19 Nov 2008 15:58
Letzte Änderung: 16 Mai 2024 10:02
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