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Effect of total gas and oxygen partial pressure during deposition on the properties of sputtered V2O5 thin films

Gies, Astrid ; Pecquenard, B. ; Benayad, A. ; Martinez, H. ; Gonbeau, D. ; Fuess, Hartmut ; Levasseur, A. (2005)
Effect of total gas and oxygen partial pressure during deposition on the properties of sputtered V2O5 thin films.
In: Solid State Ionics, 176
Artikel, Bibliographie

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 2005
Autor(en): Gies, Astrid ; Pecquenard, B. ; Benayad, A. ; Martinez, H. ; Gonbeau, D. ; Fuess, Hartmut ; Levasseur, A.
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: Effect of total gas and oxygen partial pressure during deposition on the properties of sputtered V2O5 thin films
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 2005
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Solid State Ionics
Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: 176
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften
Hinterlegungsdatum: 20 Nov 2008 08:21
Letzte Änderung: 20 Feb 2020 13:24
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