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RFA as control method of the reactive sputtering process on TiN films

Stobiecki, T. ; Stobiecki, F. ; Conradi, T. ; Kraegermann, S. ; Röll, K. ; Berg, G. (1995)
RFA as control method of the reactive sputtering process on TiN films.
In: Fresenius Journal of Analytical Chemistry, 353
doi: 10.1007/BF00321317
Artikel, Bibliographie

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 1995
Autor(en): Stobiecki, T. ; Stobiecki, F. ; Conradi, T. ; Kraegermann, S. ; Röll, K. ; Berg, G.
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: RFA as control method of the reactive sputtering process on TiN films
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 1995
Verlag: Springer
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Fresenius Journal of Analytical Chemistry
Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: 353
DOI: 10.1007/BF00321317
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 16 Fachbereich Maschinenbau
Hinterlegungsdatum: 19 Nov 2008 15:56
Letzte Änderung: 19 Apr 2024 12:37
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