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{B[C2H4Si(CH3)NH]2[C2H4Si(CH3)N(SiH2Ph)]}n: The first polyborosilazane precursor for silicoboron carbonitride stable to 2200°C

Wang, Z.-C. ; Gerstel, P. ; Kaiser, G. ; Hummer, H. ; Kummer, H. ; Bill, J. ; Aldinger, F. ; Riedel, R. (2001)
{B[C2H4Si(CH3)NH]2[C2H4Si(CH3)N(SiH2Ph)]}n: The first polyborosilazane precursor for silicoboron carbonitride stable to 2200°C.
In: Chemistry letters
Artikel, Bibliographie

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 2001
Autor(en): Wang, Z.-C. ; Gerstel, P. ; Kaiser, G. ; Hummer, H. ; Kummer, H. ; Bill, J. ; Aldinger, F. ; Riedel, R.
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: {B[C2H4Si(CH3)NH]2[C2H4Si(CH3)N(SiH2Ph)]}n: The first polyborosilazane precursor for silicoboron carbonitride stable to 2200°C
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 2001
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Chemistry letters
Zusätzliche Informationen:

Zeichendarst. im Sachtitel teilw. nicht vorlagegemäß wiedergegeben

Fachbereich(e)/-gebiet(e): 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften
Hinterlegungsdatum: 19 Nov 2008 16:27
Letzte Änderung: 20 Feb 2020 13:27
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