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Promoting effect of interfacial hole accumulation on photoelectrochemical water oxidation in BiVO4 and Mo-doped BiVO4

Wu, Xiaofeng ; Oropeza, Freddy E. ; Chang, Shixin ; Einert, Marcus ; Wu, Qingyang ; Maheu, Clément ; Gallenberger, Julia ; Tian, Chuanmu ; Lv, Kangle ; Hofmann, Jan P. (2024)
Promoting effect of interfacial hole accumulation on photoelectrochemical water oxidation in BiVO4 and Mo-doped BiVO4.
In: Advanced Powder Materials, 3 (6)
doi: 10.1016/j.apmate.2024.100234
Artikel, Bibliographie

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 2024
Autor(en): Wu, Xiaofeng ; Oropeza, Freddy E. ; Chang, Shixin ; Einert, Marcus ; Wu, Qingyang ; Maheu, Clément ; Gallenberger, Julia ; Tian, Chuanmu ; Lv, Kangle ; Hofmann, Jan P.
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: Promoting effect of interfacial hole accumulation on photoelectrochemical water oxidation in BiVO4 and Mo-doped BiVO4
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 2024
Verlag: Elsevier
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Advanced Powder Materials
Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: 3
(Heft-)Nummer: 6
DOI: 10.1016/j.apmate.2024.100234
ID-Nummer: Artikel-ID: 100234
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Oberflächenforschung
Hinterlegungsdatum: 11 Dez 2024 06:48
Letzte Änderung: 11 Dez 2024 16:00
PPN: 52452744X
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