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Electrostatic Boundary Conditions and (Electro)chemical Interface Stability

Huang, Binxiang ; Erhart, Paul ; Yang, Tongqing ; Klein, Andreas (2024)
Electrostatic Boundary Conditions and (Electro)chemical Interface Stability.
In: Advanced Materials Interfaces, 2023, 10 (21)
doi: 10.26083/tuprints-00024674
Artikel, Zweitveröffentlichung, Verlagsversion

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Kurzbeschreibung (Abstract)

Interface stability is a key factor for stable operation of electronic and electrochemical devices. This contribution introduces an approach for the operando analysis of interfaces using photoelectron spectroscopy employing a solid oxide electrochemical cell. The combined chemical and electronic information provided by the experiment reveals that not only chemical but also electrostatic boundary conditions are essential for interface stability. The approach is demonstrated using (anti‐)ferroelectric (Pb,La)(Zr,Sn,Ti)O₃ dielectrics.

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 2024
Autor(en): Huang, Binxiang ; Erhart, Paul ; Yang, Tongqing ; Klein, Andreas
Art des Eintrags: Zweitveröffentlichung
Titel: Electrostatic Boundary Conditions and (Electro)chemical Interface Stability
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 9 Februar 2024
Ort: Darmstadt
Publikationsdatum der Erstveröffentlichung: 2023
Ort der Erstveröffentlichung: Weinheim
Verlag: Wiley-VCH
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Advanced Materials Interfaces
Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: 10
(Heft-)Nummer: 21
Kollation: 6 Seiten
DOI: 10.26083/tuprints-00024674
URL / URN: https://tuprints.ulb.tu-darmstadt.de/24674
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Herkunft: Zweitveröffentlichung DeepGreen
Kurzbeschreibung (Abstract):

Interface stability is a key factor for stable operation of electronic and electrochemical devices. This contribution introduces an approach for the operando analysis of interfaces using photoelectron spectroscopy employing a solid oxide electrochemical cell. The combined chemical and electronic information provided by the experiment reveals that not only chemical but also electrostatic boundary conditions are essential for interface stability. The approach is demonstrated using (anti‐)ferroelectric (Pb,La)(Zr,Sn,Ti)O₃ dielectrics.

Freie Schlagworte: anti‐ferroelectrics, electrochemical cells, interface stability, operando, X‐ray photoelectron spectroscopy
ID-Nummer: Artikel-ID: 2300332
Status: Verlagsversion
URN: urn:nbn:de:tuda-tuprints-246748
Sachgruppe der Dewey Dezimalklassifikatin (DDC): 500 Naturwissenschaften und Mathematik > 530 Physik
600 Technik, Medizin, angewandte Wissenschaften > 660 Technische Chemie
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Elektronenstruktur von Materialien
LOEWE
LOEWE > LOEWE-Schwerpunkte
LOEWE > LOEWE-Schwerpunkte > FLAME - Fermi Level Engineering Antiferroelektrischer Materialien für Energiespeicher und Isolatoren
Hinterlegungsdatum: 09 Feb 2024 14:00
Letzte Änderung: 12 Feb 2024 07:33
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