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Electronic properties of In₂O₃ surfaces

Klein, Andreas (2021)
Electronic properties of In₂O₃ surfaces.
In: Applied Physics Letters, 2000, 77 (13)
doi: 10.26083/tuprints-00019846
Artikel, Zweitveröffentlichung, Verlagsversion

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Kurzbeschreibung (Abstract)

Surfaces of reactively evaporated In₂O₃ films were investigated in situ by synchrotron-excited photoemission. Work function, valence band maximum, and electronic states in the band gap were determined as a function of oxygen pressure. Surface and bulk electronic properties can only be explained consistently with the assumption of a surface depletion layer.

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 2021
Autor(en): Klein, Andreas
Art des Eintrags: Zweitveröffentlichung
Titel: Electronic properties of In₂O₃ surfaces
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 2021
Publikationsdatum der Erstveröffentlichung: 2000
Verlag: AIP Publishing
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Applied Physics Letters
Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: 77
(Heft-)Nummer: 13
DOI: 10.26083/tuprints-00019846
URL / URN: https://tuprints.ulb.tu-darmstadt.de/19846
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Herkunft: Zweitveröffentlichungsservice
Kurzbeschreibung (Abstract):

Surfaces of reactively evaporated In₂O₃ films were investigated in situ by synchrotron-excited photoemission. Work function, valence band maximum, and electronic states in the band gap were determined as a function of oxygen pressure. Surface and bulk electronic properties can only be explained consistently with the assumption of a surface depletion layer.

Status: Verlagsversion
URN: urn:nbn:de:tuda-tuprints-198469
Sachgruppe der Dewey Dezimalklassifikatin (DDC): 500 Naturwissenschaften und Mathematik > 530 Physik
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Oberflächenforschung
Hinterlegungsdatum: 08 Nov 2021 12:12
Letzte Änderung: 09 Nov 2021 06:12
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