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Reactive Dual Magnetron Sputtering: A Fast Method for Preparing Stoichiometric Microcrystalline ZnWO4 Thin Films

Hermans, Yannick ; Mehmood, Faraz ; Lakus-Wollny, Kerstin ; Hofmann, Jan P. ; Mayer, Thomas ; Jaegermann, Wolfram (2021)
Reactive Dual Magnetron Sputtering: A Fast Method for Preparing Stoichiometric Microcrystalline ZnWO4 Thin Films.
In: Surfaces, 4 (2)
doi: 10.3390/surfaces4020013
Artikel, Bibliographie

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 2021
Autor(en): Hermans, Yannick ; Mehmood, Faraz ; Lakus-Wollny, Kerstin ; Hofmann, Jan P. ; Mayer, Thomas ; Jaegermann, Wolfram
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: Reactive Dual Magnetron Sputtering: A Fast Method for Preparing Stoichiometric Microcrystalline ZnWO4 Thin Films
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 2021
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Surfaces
Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: 4
(Heft-)Nummer: 2
DOI: 10.3390/surfaces4020013
URL / URN: https://doi.org/10.3390/surfaces4020013
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Oberflächenforschung
Hinterlegungsdatum: 11 Mai 2021 11:03
Letzte Änderung: 14 Jan 2024 09:57
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