Utzmann, Fabian (2020)
Plasmapolymerisation siliziumbasierter Schichten zum Korrosionsschutz von Leiterplatten: Schicht- und Prozessentwicklung an einem Reaktorkonzept für die industrielle Elektronikfertigung.
Technische Universität Darmstadt
doi: 10.25534/tuprints-00011418
Dissertation, Erstveröffentlichung
Kurzbeschreibung (Abstract)
Elektronische Baugruppen werden zum Schutz vor korrosiv wirkenden Umwelteinflüssen beschichtet. Dabei werden für gewöhnlich lösemittelhaltige Schutzlacke aufgetragen. Als Alternative wurde in dieser Doktorarbeit die Anwendbarkeit eines neuartigen Niederdruck-Plasmareaktorkonzeptes untersucht. Das Konzept sieht eine nahtlose Integration in eine industrielle Elektronikfertigung mit hohem Automatisierungsgrad vor, weshalb sich der Aufbau der Beschichtungskammer stark von bisher bekannten Plasmareaktoren unterscheidet. Dabei wurde erstmals ein Leiterplatten-Transportmagazin als Schnittstelle für einen Plasmaprozess genutzt. Demzufolge musste zunächst der Zusammenhang zwischen den Einflussparametern und Einzelschichteigenschaften experimentell ermittelt werden. Basierend darauf wurden mehrlagige Schichtkonzepte entwickelt und deren Schutzwirkung im Vergleich zu konventionellen Lacken untersucht. Zur Abscheidung der siliziumbasierten Dünnschichten wurde ein Präkursorsystem aus Hexamethyldisiloxan und Sauerstoff genutzt.
| Typ des Eintrags: | Dissertation | ||||
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| Erschienen: | 2020 | ||||
| Autor(en): | Utzmann, Fabian | ||||
| Art des Eintrags: | Erstveröffentlichung | ||||
| Titel: | Plasmapolymerisation siliziumbasierter Schichten zum Korrosionsschutz von Leiterplatten: Schicht- und Prozessentwicklung an einem Reaktorkonzept für die industrielle Elektronikfertigung | ||||
| Sprache: | Deutsch | ||||
| Referenten: | Etzold, Prof. Dr. Bastian J. M. ; Andrieu-Brunsen, Prof. Dr. Annette | ||||
| Publikationsjahr: | 2020 | ||||
| Ort: | Darmstadt | ||||
| Datum der mündlichen Prüfung: | 7 April 2020 | ||||
| DOI: | 10.25534/tuprints-00011418 | ||||
| URL / URN: | https://tuprints.ulb.tu-darmstadt.de/11418 | ||||
| Kurzbeschreibung (Abstract): | Elektronische Baugruppen werden zum Schutz vor korrosiv wirkenden Umwelteinflüssen beschichtet. Dabei werden für gewöhnlich lösemittelhaltige Schutzlacke aufgetragen. Als Alternative wurde in dieser Doktorarbeit die Anwendbarkeit eines neuartigen Niederdruck-Plasmareaktorkonzeptes untersucht. Das Konzept sieht eine nahtlose Integration in eine industrielle Elektronikfertigung mit hohem Automatisierungsgrad vor, weshalb sich der Aufbau der Beschichtungskammer stark von bisher bekannten Plasmareaktoren unterscheidet. Dabei wurde erstmals ein Leiterplatten-Transportmagazin als Schnittstelle für einen Plasmaprozess genutzt. Demzufolge musste zunächst der Zusammenhang zwischen den Einflussparametern und Einzelschichteigenschaften experimentell ermittelt werden. Basierend darauf wurden mehrlagige Schichtkonzepte entwickelt und deren Schutzwirkung im Vergleich zu konventionellen Lacken untersucht. Zur Abscheidung der siliziumbasierten Dünnschichten wurde ein Präkursorsystem aus Hexamethyldisiloxan und Sauerstoff genutzt. |
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| Alternatives oder übersetztes Abstract: |
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| URN: | urn:nbn:de:tuda-tuprints-114180 | ||||
| Sachgruppe der Dewey Dezimalklassifikatin (DDC): | 600 Technik, Medizin, angewandte Wissenschaften > 600 Technik 600 Technik, Medizin, angewandte Wissenschaften > 620 Ingenieurwissenschaften und Maschinenbau 600 Technik, Medizin, angewandte Wissenschaften > 660 Technische Chemie 600 Technik, Medizin, angewandte Wissenschaften > 670 Industrielle und handwerkliche Fertigung |
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| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 07 Fachbereich Chemie 07 Fachbereich Chemie > Ernst-Berl-Institut > Fachgebiet Technische Chemie 07 Fachbereich Chemie > Ernst-Berl-Institut > Fachgebiet Technische Chemie > Technische Chemie I |
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| Hinterlegungsdatum: | 23 Apr 2020 08:52 | ||||
| Letzte Änderung: | 28 Apr 2020 05:12 | ||||
| PPN: | |||||
| Referenten: | Etzold, Prof. Dr. Bastian J. M. ; Andrieu-Brunsen, Prof. Dr. Annette | ||||
| Datum der mündlichen Prüfung / Verteidigung / mdl. Prüfung: | 7 April 2020 | ||||
| Export: | |||||
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