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CZE application with an ITP initial state to determine anionic impurities on as-polished silicon wafer surfaces

Boden, Jana ; Bächmann, K. ; Lotz, ; Fabry, ; Pahlke, :
CZE application with an ITP initial state to determine anionic impurities on as-polished silicon wafer surfaces.
In: Journal of chromatography. A 696 (1995), S. 321-332
[Artikel], (1995)

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 1995
Autor(en): Boden, Jana ; Bächmann, K. ; Lotz, ; Fabry, ; Pahlke,
Titel: CZE application with an ITP initial state to determine anionic impurities on as-polished silicon wafer surfaces
Sprache: Englisch
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Journal of chromatography. A 696 (1995), S. 321-332
Fachbereich(e)/-gebiet(e): Fachbereich Chemie
Fachbereich Chemie > Anorganische Chemie
Hinterlegungsdatum: 19 Nov 2008 15:55
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