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CZE application with an ITP initial state to determine anionic impurities on as-polished silicon wafer surfaces

Boden, Jana ; Bächmann, K. ; Lotz, ; Fabry, ; Pahlke, (1995)
CZE application with an ITP initial state to determine anionic impurities on as-polished silicon wafer surfaces.
In: Journal of chromatography. A 696 (1995), S. 321-332
Artikel, Bibliographie

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 1995
Autor(en): Boden, Jana ; Bächmann, K. ; Lotz, ; Fabry, ; Pahlke,
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: CZE application with an ITP initial state to determine anionic impurities on as-polished silicon wafer surfaces
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 1995
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Journal of chromatography. A 696 (1995), S. 321-332
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 07 Fachbereich Chemie
07 Fachbereich Chemie > Eduard Zintl-Institut > Fachgebiet Anorganische Chemie
Hinterlegungsdatum: 19 Nov 2008 15:55
Letzte Änderung: 20 Feb 2020 13:31
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