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Selective area growth of InP by plasma assisted solid-source epitaxy

Aller, Ingo ; Hartnagel, H. L. (1996)
Selective area growth of InP by plasma assisted solid-source epitaxy.
In: Journal of electronic materials. 25 (1996), S. 421-424
Artikel, Bibliographie

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 1996
Autor(en): Aller, Ingo ; Hartnagel, H. L.
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: Selective area growth of InP by plasma assisted solid-source epitaxy
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 1996
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Journal of electronic materials. 25 (1996), S. 421-424
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik
18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Mikrowellenelektronik
Hinterlegungsdatum: 19 Nov 2008 16:20
Letzte Änderung: 20 Feb 2020 13:31
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