Wischmeyer, Frank ; Niemann, E. ; Hartnagel, H. L. (1999)
Improvements of the SiC homoepitaxy process in a horizont cold-wall CVD reactor.
In: Journal of electronic materials, 28
Artikel, Bibliographie

Wischmeyer, Frank ; Horn, ; Niemann, E. ; Hartnagel, H. L. (1996)
Rastertunnelmikroskopie als Methode zur Untersuchung des Interfaces zwischen CVD-gewachsenem 3C-SiC und Silizium.
Konferenzveröffentlichung, Bibliographie