TU Darmstadt / ULB / TUbiblio

Blättern nach Person

Ebene hoch
Exportieren als [feed] Atom [feed] RSS 1.0 [feed] RSS 2.0
Gruppiere nach: Keine Gruppierung | Typ des Eintrags | Publikationsjahr | Sprache
Springe zu: 2021 | 2019 | 2017 | 2016 | 2012 | 2011
Anzahl der Einträge: 14.

2021

Deuermeier, Jonas ; Fortunato, Elvira ; Martins, Rodrigo ; Klein, Andreas (2021)
Energy band alignment at the nanoscale.
In: Applied Physics Letters, 110 (5)
doi: 10.26083/tuprints-00019852
Artikel, Zweitveröffentlichung, Verlagsversion

Deuermeier, Jonas ; Wardenga, Hans F. ; Morasch, Jan ; Siol, Sebastian ; Nandy, Suman ; Calmeiro, Tomás ; Martins, Rodrigo ; Klein, Andreas ; Fortunato, Elvira (2021)
Highly conductive grain boundaries in copper oxide thin films.
In: Journal of Applied Physics, 119 (23)
doi: 10.26083/tuprints-00019920
Artikel, Zweitveröffentlichung, Verlagsversion

Deuermeier, Jonas ; Kiazadeh, Asal ; Klein, Andreas ; Martins, Rodrigo ; Fortunato, Elvira (2021)
Multi-Level Cell Properties of a Bilayer Cu₂O/Al₂O₃ Resistive Switching Device.
In: Nanomaterials, 9 (2)
doi: 10.26083/tuprints-00019794
Artikel, Zweitveröffentlichung, Verlagsversion

Deuermeier, Jonas ; Gassmann, Jürgen ; Brötz, Joachim ; Klein, Andreas (2021)
Reactive magnetron sputtering of Cu₂O: Dependence on oxygen pressure and interface formation with indium tin oxide.
In: Journal of Applied Physics, 109 (11)
doi: 10.26083/tuprints-00019938
Artikel, Zweitveröffentlichung, Verlagsversion

Wendel, Philipp ; Dietz, Dominik ; Deuermeier, Jonas ; Klein, Andreas (2021)
Reversible Barrier Switching of ZnO/RuO2 Schottky Diodes.
In: Materials, 14 (10)
doi: 10.3390/ma14102678
Artikel, Bibliographie

Wendel, Philipp ; Dietz, Dominik ; Deuermeier, Jonas ; Klein, Andreas (2021)
Reversible Barrier Switching of ZnO/RuO₂ Schottky Diodes.
In: Materials, 2021, 14 (10)
doi: 10.26083/tuprints-00019377
Artikel, Zweitveröffentlichung, Verlagsversion

2019

Deuermeier, Jonas ; Kiazadeh, Asal ; Klein, Andreas ; Martins, Rodrigo ; Fortunato, Elvira (2019)
Multi-Level Cell Properties of a Bilayer Cu2O/Al2O3 Resistive Switching Device.
In: Nanomaterials, 9 (2)
doi: 10.3390/nano9020289
Artikel, Bibliographie

2017

Deuermeier, Jonas ; Fortunato, Elvira ; Martins, Rodrigo ; Klein, Andreas (2017)
Energy band alignment at the nanoscale.
In: Applied Physics Letters, 110 (5)
Artikel, Bibliographie

Deuermeier, Jonas (2017)
Origins of limited electrical performance of polycrystalline Cu2O thin-film transistors.
Technische Universität Darmstadt
Dissertation, Erstveröffentlichung

2016

Deuermeier, Jonas ; Wardenga, Hans F. ; Morasch, Jan ; Siol, Sebastian ; Nandy, Suman ; Calmeiro, Tomás ; Martins, Rodrigo ; Klein, Andreas ; Fortunato, Elvira (2016)
Highly conductive grain boundaries in copper oxide thin films.
In: Journal of Applied Physics, 119 (23)
doi: 10.1063/1.4954002
Artikel, Bibliographie

Siol, Sebastian ; Hellmann, Jan C. ; Tilley, S. David ; Graetzel, Michael ; Morasch, Jan ; Deuermeier, Jonas ; Jaegermann, Wolfram ; Klein, Andreas (2016)
Band Alignment Engineering at Cu2O/ZnO Heterointerfaces.
In: ACS Applied Materials & Interfaces, 8 (33)
doi: 10.1021/acsami.6b07325
Artikel, Bibliographie

Deuermeier, Jonas ; Bayer, Thorsten J. M. ; Yanagi, Hiroshi ; Kiazadeh, Asal ; Martins, Rodrigo ; Klein, Andreas ; Fortunato, Elvira (2016)
Substrate reactivity as the origin of Fermi level pinning at the Cu2O/ALD-Al2O3interface.
In: Materials Research Express, 3 (4)
doi: 10.1088/2053-1591/3/4/046404
Artikel, Bibliographie

2012

Bayer, Thorsten J. M. ; Wachau, André ; Fuchs, Anne ; Deuermeier, Jonas ; Klein, Andreas (2012)
Atomic Layer Deposition of Al2O3 onto Sn-Doped In2O3: Absence of Self-Limited Adsorption during Initial Growth by Oxygen Diffusion from the Substrate and Band Offset Modification by Fermi Level Pinning in Al2O3.
In: Chemistry of Materials, 24 (23)
doi: 10.1021/cm301732t
Artikel, Bibliographie

2011

Deuermeier, Jonas ; Gassmann, Jürgen ; Broetz, Joachim ; Klein, Andreas (2011)
Reactive magnetron sputtering of Cu2O: Dependence on oxygen pressure and interface formation with indium tin oxide.
In: Journal of Applied Physics, 109 (11)
doi: 10.1063/1.3592981
Artikel, Bibliographie

Diese Liste wurde am Tue Mar 26 03:00:15 2024 CET generiert.