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Niu, G ; Schubert, M A ; Sharath, S U ; Zaumseil, P ; Vogel, S ; Wenger, C ; Hildebrandt, E ; Bhupathi, S ; Perez, E ; Alff, L ; Lehmann, M ; Schroeder, T ; Niermann, T :
Electron holography on HfO2/HfO2−x bilayer structures with multilevel resistive switching properties.
[Online-Edition: http://doi.org/10.1088/1361-6528/aa6cd9]
In: Nanotechnology, 28 (21) p. 215702. ISSN 0957-4484
[Artikel], (2017)

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