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Surface- and sidewall-damage of InP-based optoelectronic devices during reactive ion etching using CH4/H2

Böttner, Th. ; Kräutle, H. ; Kuphal, E. ; Miethe, K. ; Hartnagel, H. L. (1996)
Surface- and sidewall-damage of InP-based optoelectronic devices during reactive ion etching using CH4/H2.
Konferenzveröffentlichung, Bibliographie

Typ des Eintrags: Konferenzveröffentlichung
Erschienen: 1996
Autor(en): Böttner, Th. ; Kräutle, H. ; Kuphal, E. ; Miethe, K. ; Hartnagel, H. L.
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: Surface- and sidewall-damage of InP-based optoelectronic devices during reactive ion etching using CH4/H2
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 1996
Buchtitel: International Conference on Indium Phosphide and Related Materials : 8, 1996, Schwäbisch Gmünd ; Proceedings
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik
18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Mikrowellenelektronik
Hinterlegungsdatum: 19 Nov 2008 16:04
Letzte Änderung: 10 Mär 2022 13:23
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