Lebedev, Mikhail V. ; Kalyuzhnyy, Nikolay A. ; Mintairov, Sergey A. ; Calvet, Wolfram ; Kaiser, Bernhard ; Jaegermann, Wolfram (2016)
Comparison of wet chemical treatment and Ar-ion sputtering for GaInP2(100) surface preparation.
In: Materials Science in Semiconductor Processing, 51
doi: 10.1016/j.mssp.2016.05.005
Artikel, Bibliographie
| Typ des Eintrags: | Artikel |
|---|---|
| Erschienen: | 2016 |
| Autor(en): | Lebedev, Mikhail V. ; Kalyuzhnyy, Nikolay A. ; Mintairov, Sergey A. ; Calvet, Wolfram ; Kaiser, Bernhard ; Jaegermann, Wolfram |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | Comparison of wet chemical treatment and Ar-ion sputtering for GaInP2(100) surface preparation |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | 2016 |
| Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | Materials Science in Semiconductor Processing |
| Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: | 51 |
| DOI: | 10.1016/j.mssp.2016.05.005 |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Oberflächenforschung 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften |
| Hinterlegungsdatum: | 13 Dez 2016 15:12 |
| Letzte Änderung: | 13 Dez 2016 15:12 |
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