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Automatic mask adaptation of cmos-compatible micromachined devices using their finite element model

Lang, Markus ; Glesner, :
Automatic mask adaptation of cmos-compatible micromachined devices using their finite element model.
In: MME' 97: Micromechanics Europe <1997, Southampton>; Proceedings. S. 215-218 .
[Konferenz- oder Workshop-Beitrag], (1997)

Typ des Eintrags: Konferenz- oder Workshop-Beitrag (Keine Angabe)
Erschienen: 1997
Autor(en): Lang, Markus ; Glesner,
Titel: Automatic mask adaptation of cmos-compatible micromachined devices using their finite element model
Sprache: Englisch
Reihe: MME' 97: Micromechanics Europe <1997, Southampton>; Proceedings. S. 215-218
Fachbereich(e)/-gebiet(e): Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik
Hinterlegungsdatum: 19 Nov 2008 16:04
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