Diese Arbeit beschreibt das Phasenverhalten in dünnen Polymerfilmen, die durch Spincoating einer Polymerlösung zweier inkompatibler Polymere (Polystyrol (PS) und Poly¬methylmethacrylat (PMMA)) hergestellt werden. Bei Lösungen in Methylethylketon (MEK) kann sich – abhängig von den experimentellen Bedingungen – eine rein laterale Struktur oder ein horizontal geschichteter Aufbau der Polymerphasen einstellen. Die Strukturbildung ist dabei abhängig von einer Vielzahl von Parametern: dem Massenverhältnis der Polymere, der Verdampfungsrate, dem Molekelurgewicht, der Polymere und von der relativen Luftfeuchtigkeit in der Prozessgasatmosphäre über dem Spincoater. Die Luftfeuchte ist es, die dabei ganz wesentlich den Übergang zwischen Selbststratifikation und lateraler Strukturbildung bestimmt. Die Dynamik der Schichtbildung wurde, abhängig von den oben genannten Parametern, durch optische Echtzeit-In-situ-Reflektometrie und die entstehenden Morphologien mit Rasterelektronenemikroskopie (REM) bzw. Rasterkraftmikroskopie (AFM) untersucht. Wird die Lösung in reiner (trockener) Stickstoffatmosphäre aufgesponnen, bildet sich eine Dreifachschicht mit der Schichtfolge: PMMA/PS/PMMA, was durch Ellipsometrie und Sekundärionenmassenspektroskopie (SIMS) nachgewiesen wurde. Ein diffusionsdominiertes Strukturbildungsmodell, welches die Wechselwirkung mit dem polaren Substrat (SiOx) und mit der Restfeuchtigkeit in der Polymerlösung bzw. der Atmosphäre berücksichtigt, erklärt dieses Verhalten der inkompatiblen Polymere. Ein erweitertes Modell beschreibt die Strukturbildung bei höherer Luftfeuchtigkeit. Bei einer relativen Feuchte von 40-50 %, bildet sich stets ein dünner PMMA-Film der isolierte PS Inseln oder Tröpfchen enthält. Laut dem Modell bilden sich diese Inseln oder Tröpfchen fern von der Grenzfläche im Inneren des Filmes. Durch Entnetzen des PMMA-Filmes unter- und oberhalb der Tröpfchen liegen diese am Ende des Trocknungsvorgangs auf dem Substrat auf und haben gleichzeitig Kontakt zur Luftgrenzfläche. Daher können nun durch Verwendung eines selektiven Lösungsmittels entweder PS oder PMMA aufgelöst werden um das Substrat an den vom jeweiligen Polymer bedeckten Stellen freizulegen. Diese Vorgehensweise bezeichnen wir als Polymer-Blend-Lithographie und demonstrieren in dieser Arbeit zwei Ausführungen davon: 1. Die „Monolagen-Polymer-Blend¬Lithographie“ (Monolayer PBL), wo eine Abbild der Polymerstruktur in einer selbst-organisierenden Monolage entsteht, sowie 2. Die „Metal PBL“ wo eine aufgedampfte Metallschicht lateral strukturiert wird. Dabei entstehen mesoskopische Metallinseln (Abhängig von den gewählten Parametern 50 nm bis 500 nm Durchmesser) oder großflächige Metallfilme mit mesoskopischen Poren gleicher Größe mit einer typischen Dichte von 1 Milliarde / 2,5 cm x 2,5 cm. Neben der erfolgreichen Anwendung der gemusterten Monolagen als Template für ortsselektive Mineralisation von Zinkoxid-Inseln (ZnO) wurde schließlich die wellenlängenselektive Transmission aufgrund der plasmonischen Eigenschaften der Metallfilme demonstriert.