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Molecular beam epitaxy growth of thin films of SnS2 and SnSe2 on cleaved mica and the basal planes of single-crystal layered semiconductors: Reflection high-energy electron diffraction, low-energy electron diffraction, photoemission, and scanning tunneling microscopy/atomic force microscopy characterization

Schlaf, R. ; Louder, D. ; Lang, O. ; Pettenkofer, C. ; Jaegermann, W. ; Nebesny, K. ; Lee, P. ; Parkinson, B. A. ; Armstrong, N. R. (1995)
Molecular beam epitaxy growth of thin films of SnS2 and SnSe2 on cleaved mica and the basal planes of single-crystal layered semiconductors: Reflection high-energy electron diffraction, low-energy electron diffraction, photoemission, and scanning tunneling microscopy/atomic force microscopy characterization.
In: Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, 13 (3)
doi: 10.1116/1.579766
Artikel, Bibliographie

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 1995
Autor(en): Schlaf, R. ; Louder, D. ; Lang, O. ; Pettenkofer, C. ; Jaegermann, W. ; Nebesny, K. ; Lee, P. ; Parkinson, B. A. ; Armstrong, N. R.
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: Molecular beam epitaxy growth of thin films of SnS2 and SnSe2 on cleaved mica and the basal planes of single-crystal layered semiconductors: Reflection high-energy electron diffraction, low-energy electron diffraction, photoemission, and scanning tunneling microscopy/atomic force microscopy characterization
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 1995
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films
Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: 13
(Heft-)Nummer: 3
DOI: 10.1116/1.579766
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Oberflächenforschung
Hinterlegungsdatum: 27 Apr 2015 07:55
Letzte Änderung: 27 Apr 2015 07:55
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