Kunst, M. ; Jaegermann, W. ; Schmeisser, D. (1987)
Chemical etching of p-type Si(lOO) by K2Cr2O7: A combined investigation by TRMC, XPS, UPS and LEED.
In: Applied Physics A Solids and Surfaces, 42 (1)
doi: 10.1007/BF00618159
Artikel, Bibliographie
| Typ des Eintrags: | Artikel |
|---|---|
| Erschienen: | 1987 |
| Autor(en): | Kunst, M. ; Jaegermann, W. ; Schmeisser, D. |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | Chemical etching of p-type Si(lOO) by K2Cr2O7: A combined investigation by TRMC, XPS, UPS and LEED |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | 1987 |
| Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | Applied Physics A Solids and Surfaces |
| Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: | 42 |
| (Heft-)Nummer: | 1 |
| DOI: | 10.1007/BF00618159 |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Oberflächenforschung |
| Hinterlegungsdatum: | 22 Apr 2015 08:51 |
| Letzte Änderung: | 22 Apr 2015 08:51 |
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