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Wet Etching of GaAs(100) in Acidic and Basic Solutions: A Synchrotron−Photoemission Spectroscopy Study

Lebedev, M. V. ; Mankel, E. ; Mayer, T. ; Jaegermann, W. (2008)
Wet Etching of GaAs(100) in Acidic and Basic Solutions: A Synchrotron−Photoemission Spectroscopy Study.
In: The Journal of Physical Chemistry C, 112 (47)
doi: 10.1021/jp805568t
Artikel, Bibliographie

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 2008
Autor(en): Lebedev, M. V. ; Mankel, E. ; Mayer, T. ; Jaegermann, W.
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: Wet Etching of GaAs(100) in Acidic and Basic Solutions: A Synchrotron−Photoemission Spectroscopy Study
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 2008
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: The Journal of Physical Chemistry C
Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: 112
(Heft-)Nummer: 47
DOI: 10.1021/jp805568t
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Oberflächenforschung
Hinterlegungsdatum: 24 Mär 2015 15:30
Letzte Änderung: 24 Mär 2015 15:30
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