Schmid, Stefan ; Hausbrand, René ; Jaegermann, Wolfram (2014)
Cobalt oxide thin film low pressure metal-organic chemical vapor deposition.
In: Thin Solid Films, 567
doi: 10.1016/j.tsf.2014.07.029
Artikel, Bibliographie
| Typ des Eintrags: | Artikel |
|---|---|
| Erschienen: | 2014 |
| Autor(en): | Schmid, Stefan ; Hausbrand, René ; Jaegermann, Wolfram |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | Cobalt oxide thin film low pressure metal-organic chemical vapor deposition |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | September 2014 |
| Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | Thin Solid Films |
| Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: | 567 |
| DOI: | 10.1016/j.tsf.2014.07.029 |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Oberflächenforschung Exzellenzinitiative Exzellenzinitiative > Exzellenzcluster Zentrale Einrichtungen Exzellenzinitiative > Exzellenzcluster > Center of Smart Interfaces (CSI) |
| Hinterlegungsdatum: | 17 Dez 2014 14:01 |
| Letzte Änderung: | 13 Nov 2018 14:34 |
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