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Modelling of growth in a 5 X 3 inch multiwafer metalorganic vapour phase epitaxy reactor

Bergunde, T ; Durst, F ; Kadinski, L ; Makarov, Yu N. ; Schäfer, M ; Weyers, M :
Modelling of growth in a 5 X 3 inch multiwafer metalorganic vapour phase epitaxy reactor.
In: Journal of crystal growth, 145 (1) pp. 630-635.
[Artikel], (1994)

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 1994
Autor(en): Bergunde, T ; Durst, F ; Kadinski, L ; Makarov, Yu N. ; Schäfer, M ; Weyers, M
Titel: Modelling of growth in a 5 X 3 inch multiwafer metalorganic vapour phase epitaxy reactor
Sprache: Englisch
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Journal of crystal growth
Band: 145
(Heft-)Nummer: 1
Verlag: Elsevier
Fachbereich(e)/-gebiet(e): Fachbereich Maschinenbau > Numerische Berechnungsverfahren im Maschinenbau
Fachbereich Maschinenbau
Hinterlegungsdatum: 27 Mär 2014 10:52
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