TU Darmstadt / ULB / TUbiblio

Composition and structure of SiCx:H Films Formed by Plasma Immersion Ion Implantation from a Methane Plasma

Volz, K. ; Klatt, Ch. ; Ensinger, Wolfgang (2000)
Composition and structure of SiCx:H Films Formed by Plasma Immersion Ion Implantation from a Methane Plasma.
In: Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 609
Artikel, Bibliographie

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 2000
Autor(en): Volz, K. ; Klatt, Ch. ; Ensinger, Wolfgang
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: Composition and structure of SiCx:H Films Formed by Plasma Immersion Ion Implantation from a Methane Plasma
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 2000
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 609
Fachbereich(e)/-gebiet(e): 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Materialanalytik
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft
11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften
Hinterlegungsdatum: 25 Jun 2012 09:37
Letzte Änderung: 05 Mär 2013 10:01
PPN:
Export:
Suche nach Titel in: TUfind oder in Google
Frage zum Eintrag Frage zum Eintrag

Optionen (nur für Redakteure)
Redaktionelle Details anzeigen Redaktionelle Details anzeigen