Rödel, Jürgen ; Glaeser, Andreas M. (1990)
High-Temperature Healing of Lithographically Introduced Cracks in Sapphire.
In: Journal of the American Ceramic Society, 73 (3)
doi: 10.1111/j.1151-2916.1990.tb06558.x
Artikel, Bibliographie
Kurzbeschreibung (Abstract)
A new method for producing controlled-geometry, controlled-crystallography, cracklike defects using photolithography has been developed. The method has been applied to sapphire, and used to study crack healing behavior at 1800°C. Effects of crack face and crack perimeter crystallography, crack face microstructure, and impurities on healing behavior have been identified.
| Typ des Eintrags: | Artikel |
|---|---|
| Erschienen: | 1990 |
| Autor(en): | Rödel, Jürgen ; Glaeser, Andreas M. |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | High-Temperature Healing of Lithographically Introduced Cracks in Sapphire |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | März 1990 |
| Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | Journal of the American Ceramic Society |
| Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: | 73 |
| (Heft-)Nummer: | 3 |
| DOI: | 10.1111/j.1151-2916.1990.tb06558.x |
| Kurzbeschreibung (Abstract): | A new method for producing controlled-geometry, controlled-crystallography, cracklike defects using photolithography has been developed. The method has been applied to sapphire, and used to study crack healing behavior at 1800°C. Effects of crack face and crack perimeter crystallography, crack face microstructure, and impurities on healing behavior have been identified. |
| Freie Schlagworte: | lithography; sapphire; cracks; crystallography; microstructure |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft > Fachgebiet Nichtmetallisch-Anorganische Werkstoffe 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaft 11 Fachbereich Material- und Geowissenschaften |
| Hinterlegungsdatum: | 13 Jun 2012 11:53 |
| Letzte Änderung: | 05 Mär 2013 10:01 |
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