Staab, Matthias (2007)
Aufbau eines Motion-Analyzers zur Charakterisierung von MEMS-Strukturen.
Technische Universität Darmstadt
Diplom- oder Magisterarbeit, Bibliographie
Kurzbeschreibung (Abstract)
Zusammenfassung:
Ziel dieser Arbeit ist der Aufbau eines Motion-Analyzers. Dabei handelt es sich um ein Messgerät zur Charakterisierung von mikromechanischen Strukturen im Waferverbund, analog zum Test integrierter Schaltkreise mit Wafer-Probern in der Mikroelektronik. Das hier entwickelte System ermöglicht die Analyse des statischen und dynamischen Verhaltens tiefenlithographisch hergestellter, elektrothermischer Mikroaktoren mit Hilfe einer hochauflösenden CCD-Kamera (2048 x 2048 Pixel). Für die Auslösung der Bildaufnahme wird auf den Einsatz einer Echtzeitumgebung verzichtet. Stattdessen wird die Triggerung der Kamera in einen externen Mikrocontroller implementiert. Die aktuelle Auslenkung des Aktors wird über seine relative Position im aufgenommenen Bild mittels Mustererkennung durch Kreuzkorrelation ermittelt. Die mittlere Streuung der Messpunkte liegt dabei bei etwa 200 nm. Für die statischen Messungen wird Dunkelfeldbeleuchtung mit einem eigens konstruierten LED-Ringlicht eingesetzt. Aus der auf diese Weise bestimmten Aktorkennlinie werden die auftretenden statischen Fehler extrahiert. Um auf eine teure Hochgeschwindigkeitskamera verzichten zu können, werden für die dynamischen Messungen zur Frequenzgang- oder Signalanalyse verschiedene Verfahren zur gezielten Unterabtastung mit 2 bis 255 Bildern pro Signalperiode untersucht. Letztlich realisiert ist ein Verfahren, das immer genau dann ein Bild macht, wenn die Kamera alle Daten an den PC übertragen hat, für die nächste Aufnahme bereit ist und das Signal an diesem Punkt noch nicht erfasst wurde. Dieses Vorgehen führt zwangsläufig dazu, dass die Bilder nicht mehr in der, dem eigentlichen Signal entsprechenden Reihenfolge, vorliegen. Daher müssen sie nach Abschluss der Messung auf dem Steuerrechner neu sortiert und entsprechend der Anregungsfrequenz zeitlich skaliert werden. Die möglichen Messfelder bewegen sich im Bereich von 2,4 x 2,4 bis 11,7 x 11,7 mm². Dabei können Aktoren mit Anregungsfrequenzen von 3,51 mHz bis 11,52 kHz vermessen werden.
| Typ des Eintrags: | Diplom- oder Magisterarbeit |
|---|---|
| Erschienen: | 2007 |
| Autor(en): | Staab, Matthias |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | Aufbau eines Motion-Analyzers zur Charakterisierung von MEMS-Strukturen |
| Sprache: | Deutsch |
| Referenten: | Eicher, Dipl.-Ing. Dirk ; Schlaak, Prof. Dr.- Helmut Friedrich |
| Publikationsjahr: | 8 Mai 2007 |
| Zugehörige Links: | |
| Kurzbeschreibung (Abstract): | Zusammenfassung: Ziel dieser Arbeit ist der Aufbau eines Motion-Analyzers. Dabei handelt es sich um ein Messgerät zur Charakterisierung von mikromechanischen Strukturen im Waferverbund, analog zum Test integrierter Schaltkreise mit Wafer-Probern in der Mikroelektronik. Das hier entwickelte System ermöglicht die Analyse des statischen und dynamischen Verhaltens tiefenlithographisch hergestellter, elektrothermischer Mikroaktoren mit Hilfe einer hochauflösenden CCD-Kamera (2048 x 2048 Pixel). Für die Auslösung der Bildaufnahme wird auf den Einsatz einer Echtzeitumgebung verzichtet. Stattdessen wird die Triggerung der Kamera in einen externen Mikrocontroller implementiert. Die aktuelle Auslenkung des Aktors wird über seine relative Position im aufgenommenen Bild mittels Mustererkennung durch Kreuzkorrelation ermittelt. Die mittlere Streuung der Messpunkte liegt dabei bei etwa 200 nm. Für die statischen Messungen wird Dunkelfeldbeleuchtung mit einem eigens konstruierten LED-Ringlicht eingesetzt. Aus der auf diese Weise bestimmten Aktorkennlinie werden die auftretenden statischen Fehler extrahiert. Um auf eine teure Hochgeschwindigkeitskamera verzichten zu können, werden für die dynamischen Messungen zur Frequenzgang- oder Signalanalyse verschiedene Verfahren zur gezielten Unterabtastung mit 2 bis 255 Bildern pro Signalperiode untersucht. Letztlich realisiert ist ein Verfahren, das immer genau dann ein Bild macht, wenn die Kamera alle Daten an den PC übertragen hat, für die nächste Aufnahme bereit ist und das Signal an diesem Punkt noch nicht erfasst wurde. Dieses Vorgehen führt zwangsläufig dazu, dass die Bilder nicht mehr in der, dem eigentlichen Signal entsprechenden Reihenfolge, vorliegen. Daher müssen sie nach Abschluss der Messung auf dem Steuerrechner neu sortiert und entsprechend der Anregungsfrequenz zeitlich skaliert werden. Die möglichen Messfelder bewegen sich im Bereich von 2,4 x 2,4 bis 11,7 x 11,7 mm². Dabei können Aktoren mit Anregungsfrequenzen von 3,51 mHz bis 11,52 kHz vermessen werden. |
| Freie Schlagworte: | Elektromechanische Konstruktionen, Mikro- und Feinwerktechnik, Aktor elektrothermisch, Bildverarbeitung, CCD-Kamera, Dunkelfeldbeleuchtung, Koaxiales Auflicht, Messen mit LabView, Motion-Analyzer, Mustererkennung, NI Vision plug in fuer LABView, Steuerung mit LabView, Unterabtastung |
| ID-Nummer: | 17/24 EMKD 1635 |
| Zusätzliche Informationen: | EMK-spezifische Daten: Lagerort Dokument: Archiv EMK, Kontakt über Sekretariate, Bibliotheks-Sigel: 17/24 EMKD 1635 Art der Arbeit: Diplomarbeit Beginn Datum: 23-10-2006 Ende Datum: 08-05-2007 Querverweis: keiner Studiengang: Elektrotechnik und Informationstechnik (ETiT) Vertiefungsrichtung: Mikro- und Feinwerktechnik (MFT) Abschluss: Diplom (MFT) |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Elektromechanische Konstruktionen (aufgelöst 18.12.2018) 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Mikrotechnik und Elektromechanische Systeme |
| Hinterlegungsdatum: | 31 Aug 2011 10:20 |
| Letzte Änderung: | 26 Aug 2018 21:27 |
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| Referenten: | Eicher, Dipl.-Ing. Dirk ; Schlaak, Prof. Dr.- Helmut Friedrich |
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