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XPS analysis of wet chemical etching of GaAs(110) by Br2/H20: Comparison of emersion and model experiments

Beerbom, M. ; Henrion, O. ; Klein, Andreas ; Mayer, T. ; Jaegermann, W. :
XPS analysis of wet chemical etching of GaAs(110) by Br2/H20: Comparison of emersion and model experiments.
In: Electrochimica Acta, 45 pp. 4663-4672. ISSN 00134686
[Artikel], (2000)

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 2000
Autor(en): Beerbom, M. ; Henrion, O. ; Klein, Andreas ; Mayer, T. ; Jaegermann, W.
Titel: XPS analysis of wet chemical etching of GaAs(110) by Br2/H20: Comparison of emersion and model experiments
Sprache: Englisch
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Electrochimica Acta
Band: 45
Fachbereich(e)/-gebiet(e): Fachbereich Material- und Geowissenschaften
Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaften
Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaften > Oberflächenforschung / Surface Science
Hinterlegungsdatum: 19 Nov 2008 16:00
ID-Nummer: 10.1016/S0013-4686(00)00618-6
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