Schwalke, Udo ; Boye, K. ; Haberle, Klaus ; Heller, Rudolf ; Hess, Gisela ; Müller, Gudrun ; Ruland, Tino ; Tzschöckel, Gerhard ; Osten, H. J. ; Fissel, A. ; Müssig, H.-J. (2002)
Process Integration of Crystalline Pr2O3 High-k Gate Dielectrics.
In: Proceedings of 32nd European Solid State Device Research Conference (ESSDERC)
Artikel, Bibliographie
| Typ des Eintrags: | Artikel |
|---|---|
| Erschienen: | 2002 |
| Autor(en): | Schwalke, Udo ; Boye, K. ; Haberle, Klaus ; Heller, Rudolf ; Hess, Gisela ; Müller, Gudrun ; Ruland, Tino ; Tzschöckel, Gerhard ; Osten, H. J. ; Fissel, A. ; Müssig, H.-J. |
| Art des Eintrags: | Bibliographie |
| Titel: | Process Integration of Crystalline Pr2O3 High-k Gate Dielectrics |
| Sprache: | Englisch |
| Publikationsjahr: | 26 September 2002 |
| Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: | Proceedings of 32nd European Solid State Device Research Conference (ESSDERC) |
| URL / URN: | http://dx.doi.org/10.1109/ESSDERC.2002.194954 |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik > Institut für Halbleitertechnik und Nanoelektronik |
| Hinterlegungsdatum: | 27 Jun 2011 13:47 |
| Letzte Änderung: | 22 Mai 2013 13:52 |
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