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Calculation of thermally induced strains in thin films of any crystal class

Wieder, Thomas :
Calculation of thermally induced strains in thin films of any crystal class.
[Online-Edition: http://dx.doi.org/10.1063/1.360273]
In: Journal of Applied Physics, 78 (2) pp. 838-841. ISSN 00218979
[Artikel], (1995)

Offizielle URL: http://dx.doi.org/10.1063/1.360273
Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 1995
Autor(en): Wieder, Thomas
Titel: Calculation of thermally induced strains in thin films of any crystal class
Sprache: Englisch
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Journal of Applied Physics
Band: 78
(Heft-)Nummer: 2
Fachbereich(e)/-gebiet(e): Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaften > Strukturforschung
Fachbereich Material- und Geowissenschaften > Materialwissenschaften
Fachbereich Material- und Geowissenschaften
Hinterlegungsdatum: 14 Sep 2009 07:02
Offizielle URL: http://dx.doi.org/10.1063/1.360273
ID-Nummer: 10.1063/1.360273
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