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Characterisation of SiO2 deposition by low-temperature plasma and photo CVD using low-frequency noise measurements

Riemenschneider, Rolf ; Gottwald, ; Hartnagel, :
Characterisation of SiO2 deposition by low-temperature plasma and photo CVD using low-frequency noise measurements.
In: International Conference on Noise and 1/f Fluctuations: ICNF '95 <1995, Palanga, Litauen>: Proceedings. S. 599 .
[Konferenz- oder Workshop-Beitrag], (1995)

Typ des Eintrags: Konferenz- oder Workshop-Beitrag (Keine Angabe)
Erschienen: 1995
Autor(en): Riemenschneider, Rolf ; Gottwald, ; Hartnagel,
Titel: Characterisation of SiO2 deposition by low-temperature plasma and photo CVD using low-frequency noise measurements
Sprache: Englisch
Reihe: International Conference on Noise and 1/f Fluctuations: ICNF '95 <1995, Palanga, Litauen>: Proceedings. S. 599
Fachbereich(e)/-gebiet(e): Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik
Hinterlegungsdatum: 19 Nov 2008 15:58
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