Riemenschneider, Rolf ; Gottwald, ; Hartnagel,
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Characterisation of SiO2 deposition by low-temperature plasma and photo CVD using low-frequency noise measurements.
In: International Conference on Noise and 1/f Fluctuations: ICNF '95 <1995, Palanga, Litauen>: Proceedings. S. 599
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[Konferenz- oder Workshop-Beitrag], (1995)
| Typ des Eintrags: | Konferenz- oder Workshop-Beitrag (Keine Angabe) |
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| Erschienen: | 1995 |
| Autor(en): | Riemenschneider, Rolf ; Gottwald, ; Hartnagel, |
| Titel: | Characterisation of SiO2 deposition by low-temperature plasma and photo CVD using low-frequency noise measurements |
| Sprache: | Englisch |
| Reihe: | International Conference on Noise and 1/f Fluctuations: ICNF '95 <1995, Palanga, Litauen>: Proceedings. S. 599 |
| Fachbereich(e)/-gebiet(e): | Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik |
| Hinterlegungsdatum: | 19 Nov 2008 15:58 |
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