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Hochdruck-Hochtemperaturverhalten von Zirkonium- und Hafnium-Oxonitriden

Locherer, Thomas :
Hochdruck-Hochtemperaturverhalten von Zirkonium- und Hafnium-Oxonitriden.
Technische Universität , Darmstadt
[Dissertation]

Typ des Eintrags: Dissertation
Erschienen: 2009
Autor(en): Locherer, Thomas
Titel: Hochdruck-Hochtemperaturverhalten von Zirkonium- und Hafnium-Oxonitriden
Sprache: Deutsch
Ort: Darmstadt
Verlag: Technische Universität
Fachbereich(e)/-gebiet(e): Fachbereich Material- und Geowissenschaften
Hinterlegungsdatum: 05 Jun 2009 12:43
Zusätzliche Informationen:

Darmstadt, Techn. Univ., Diss., 2008

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