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Hydride-VPE embedding of InAlGaAs laser structures with Sl InP:Fe

Göbel, R. ; Steinhagen, F. ; Janning, H. (1995)
Hydride-VPE embedding of InAlGaAs laser structures with Sl InP:Fe.
In: Materials Science and Engineering: B, 35 (1-3)
doi: 10.1016/0921-5107(95)01350-4
Artikel, Bibliographie

Kurzbeschreibung (Abstract)

Hydride vapor phase epitaxy was used to selectively regrow semi-insulating InP:Fe over different InP-based laser mesa structures containing layers of the InAlGaAs material system with Al mol fractions up to 0.48. Although stable Al-containing oxides inhibit the direct epitaxial deposition on the InAlGaAs layer surfaces with high Al contents, the hydride regrowth resulted in voidfree and complete embeddings. The embedding process is presented and the regrowth was proved to be successful by very high speed laser diode operation.

Typ des Eintrags: Artikel
Erschienen: 1995
Autor(en): Göbel, R. ; Steinhagen, F. ; Janning, H.
Art des Eintrags: Bibliographie
Titel: Hydride-VPE embedding of InAlGaAs laser structures with Sl InP:Fe
Sprache: Englisch
Publikationsjahr: 1 Dezember 1995
Verlag: Elsevier
Titel der Zeitschrift, Zeitung oder Schriftenreihe: Materials Science and Engineering: B
Jahrgang/Volume einer Zeitschrift: 35
(Heft-)Nummer: 1-3
DOI: 10.1016/0921-5107(95)01350-4
Kurzbeschreibung (Abstract):

Hydride vapor phase epitaxy was used to selectively regrow semi-insulating InP:Fe over different InP-based laser mesa structures containing layers of the InAlGaAs material system with Al mol fractions up to 0.48. Although stable Al-containing oxides inhibit the direct epitaxial deposition on the InAlGaAs layer surfaces with high Al contents, the hydride regrowth resulted in voidfree and complete embeddings. The embedding process is presented and the regrowth was proved to be successful by very high speed laser diode operation.

Fachbereich(e)/-gebiet(e): 18 Fachbereich Elektrotechnik und Informationstechnik
Hinterlegungsdatum: 19 Nov 2008 15:58
Letzte Änderung: 04 Apr 2023 08:18
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